b. Бактерии естественного происхождения или измененные, в форме «изолированной живой культуры» или как материал, включая питательную среду, преднамеренно зараженную или привитую такими культурами как:
1. Ксантомонас албилинеанс (Xanthomonas albilineans);
2. Ксантомонас кампестрис патовар цитри включая штаммы Ксантомонас кампестрис патовар цитри типов A, B, C, D, E или классифицированные иначе, как Ксантомонас цитри, Ксантомонас кампестрис патовар урантифолия или Ксантомонас кампестрис патовар цитромело (Xanthomonas campestris pv. citri);
3. Ксантомонас орузае патовар Орузае (Псюдомонас кампестрис патовар Орузае);
4. Клавибактер михиганенсис подвид Сепедоникуса (коринебактериум михиганенсис подвид Сепедоникуса или коринебактериум Сепедоникум);
5. Ралстония соланасеарум биологическая раса 2 и 3 (псюдомонас соланасеарум биологическая раса 2 и 3);
с. Микроскопические грибы естественного происхождения или измененные, в форме «изолированной живой культуры» или как материал, включая питательную среду, преднамеренно зараженную или привитую такими культурами как:
1. Коллетотрихум коффеанум вариант вируланс (Коллетотрихум кахавэ) (Colletotrichum cffeanum var.virulans (Colletotrichum kahawae));
2. Кохлиоболюс миябеанус (синоним Гельминтоспориум оризэ) (Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae));
3. Микроциклюс улей (синоним Дотиделла улей) (Microcyclus ulei (syn.Dothidella ulei));
4. Пукциния граминис (синоним Пуциния граминис форма специалис тритици) (Puccinia graminis (syn.Puccinia graminis f.sp.tritici));
5. Пуциния стрииформис (синоним Пукциния глумарум) (Puccinia striiformis (syn.Puccinia glumarum));
6. Магнапорте гризеа (пирисулярия гризеа/пирикулярия ориза) (Magnaporthe grisea/pyricularia oryzae));
7. Пероносклероспора филиппиненсис (Peronosclerospora philippinensis);
8. Склерофтора райссиэ вариант зиэ (Sclerophthora rayssiae var. zeae);
9. Синхитриумэндобиотикум (Synchytriumendobioticum);
10. Тиллетиаиндика (Tilletiaindica);
11. Текафорасолани (Thecaphorasolani).
d. Исключен в соответствии с постановлением Правительства РК от 18.06.13 г. № 618 (см. стар. ред.)
e. Генетически-модифицированные организмы.
1С354 а. 3002 90 500 0
1С354 b. 3002 90 500 0
1С354 с. 3002 90 500 0
1С450 Токсичные химические вещества и прекурсоры и «химические составы», содержащие один или более из нижеперечисленного:
Особое примечание: См. также пункты 1С350, 1C351.D. и военный список.
а. Токсичные химические вещества, такие как:
1. Амитон: О,О-Диэтил S-[2-(диэтиламино)этил]тиофосфат (78-53-5) и соответствующие алкинированные или протонированные соли;
2. PFIB: 1,1,3,3,3-пентафтор-2-(трифторметил)-1-пропен (382-21-8);
3. См. военный список для BZ: 3-хинуклидинилбензилат (6581-06-2);
4. Фосген: дихлорангидрид угольной кислоты (75-44-5); 2812 10 940 0
5. Хлорциан (506-77-4); 2851 00 500 0
6. Цианистый водорода (74-90-8); 2811 19 200 0
7. Хлоропикрин: трихлорнитрометан (76-06-2); 2904 90 400 0
Примечание 1: Для экспорта в «государства, не являющиеся участниками Конвенции о запрещении разработки, производства, накопления и применения химического оружия и о его уничтожении (далее - КЗХО), 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.а.1 и а.2, в которых ни один из указанных химикалий не превышает 1 % веса всего состава.
Примечание 2: Для экспорта в «государства, являющиеся участниками Конвенции о запрещении разработки, производства, накопления и применения химического оружия и о его уничтожении (далее - КЗХО), 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.а.1. и .а.2., в которых ни один из указанных химикалий не превышает 30 % веса состава.
Примечание 3: 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.а.4, .а.5., .а.6. и .а.7. в которых ни один из указанных химикалий не превышает 30 % веса состава.
b. Токсические химические предшественники, такие как:
1. Химикаты, отличные от описанных в Военном Списке или в 1С350, содержащие атомы фосфора, связанные с метиловыми, этиловыми или пропиловыми (нормальными или изо) группами, но без атомов углерода;
Примечание: по пункту 1С450.b.1. не контролируются Фонофос: О-этил-S-фенил(этил)дитиофосфонат (944-22-9);
2. N,N-Диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо)) фосфорамидные дигалиды (амидодигалогенофосфаты);
3. Диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо))-N,N-диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо))-амидофосфаты, отличные от Диэтил-N,N-диметилфосфорамид, который описан в 1С350;
4. N,N-Диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо)амино) этилхлориды и соответствующие протонированнные соли, отличные от N,N-Диизопропил-2-аминоэтилхлорида или N,N-диизопропил-2-аминоэтилхлоридгидрохлорида, которые описаны в пункте 1С350;
5. N,N-Диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо)амино)этанолы и соответствующие протонированные соли, отличные от N,N-Диизопропил-2-аминоэтанол (96-80-0) и N,N-Диэтиламиноэтанол (100-37-8), которые описаны в пункте 1С350;
Примечание: по пункту 1С450.b.5 не контролируются:
a. 2-диметиламиноэтанол (108-01-0) и соответствующие протонированные соли;
b. Протонированные соли 2-диэтиламиноэтанола (100-37-8);
6. N,N-Диалкил (метил, этил или пропил (нормальные или изо)амино) этантиолы и соответствующие протонированные соли, отличные от N,N-Диизоприл-2-аминоэтантиол, которые описаны в пункте 1С350;
7. Этилдиэтаноламин (139-87-7); 2922 19 100 0
8. Метилдиэтаноламин (105-59-9). 2922 19 200 0
Примечание 1: Для экспорта в «государства, не являющиеся участниками Конвенции о запрещении разработки, производства, накопления и применения химического оружия и о его уничтожении (далее - КЗХО), 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.b.1., .b.2, .b.3., .b4., .b.5. и .b.6., в которых не перечисленный в списках химикалий составляет свыше 10 % от веса всего состава.
Примечание 2: Для экспорта в «государства, являющиеся участниками Конвенции о запрещении разработки, производства, накопления и применения химического оружия и о его уничтожении (далее - КЗХО), 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.b.1., .b.2, .b.3., .b4., .b.5. и .b.6., в которых не перечисленный в списках химикалий составляет свыше 30 % от веса всего состава.
Примечание 3: 1С450 не контролирует «химические составы», содержащие один или более химикалий, перечисленных в 1С450.b.7,. и .b.8., в которых химикалий, не перечисленный отдельно, составляет свыше 30 % от веса всей составы.
Примечание: 1С450 не контролирует продукты, отнесенные к разряду потребительских товаров, предназначенных в розничную торговлю для личного пользования или расфасованных для индивидуального потребления.
1С450 а. 1. 2930 90 850 0
1С450 а. 2. 2930 39 900 0
1С450 а. 3. 2916 39 000 0
1С450 а. 4. 2812 10 940 0
1С450 а. 5. 2853 00 500 0
1С450 а. 6. 2811 19 200 0
1С450 а. 7. 2904 90 400 0
1С450 b. 1. 2931 00 950 0
1С450 b. 2. 2931 00 950 0
1С450 b. 3. 2931 00 950 0
2929 90 000 0
1С450 b. 4. 2921 19 800 0
1С450 b. 5. 2921 19 800 0
1С450 b. 6. 2930 90 850 0
1С450 b. 7. 2922 19 100 0
1С450 b. 8. 2922 19 200 0
1D Программное обеспечение
1D001 «Программное обеспечение», специально разработанное или модифицированное для «разработки», «производства» или «применения» оборудования, контролируемого по пунктам с 1В001 по 1В003.
1D001
1D002 «Программное обеспечение» для «разработки» органических «матриц», металлических «матриц» или углеродных «матричных» ламинатов или «композиционных материалов».
1D002
1D101 «Программное обеспечение», специально разработанное или модифицированное для «использования» продукции, подлежащих контролю согласно п. 1В101, 1В102, 1В115, 1В117, 1В118 или 1В119.
1D101
1D103 «Программное обеспечение», специально разработанное или модифицированное для уменьшения видимости объекта, например радиолокационной отражательной способности, видимости в диапазоне ультрафиолетовых/инфракрасных волн и акустическая заметность.
1D103
1D201 «Программное обеспечение» специально разработанное для «использования» в продукции, определенной в пункте 1В201.
1D 8524
1E Технология
1Е001 «Технологии», в соответствии с технологическим примечанием предназначенные для «разработки» или «производства» оборудования или материалов, контролируемых по пунктам 1A002 по 1А005, 1А006 b., 1A007, 1B или 1С.
1Е002 Другие «Технологии», такие, как:
a. «Технологии» для «разработки» или «производства» полибензотиазолов или полибензоксазолей;
b. «Технологии» для «разработки» или «производства» фтористых эластомерных соединений, содержащих, по крайней мере, один винилэфирный мономер;
c. «Технологии» для проектирования или «производства» следующих базовых материалов или «некомпозиционных» керамических материалов:
1. Базовых материалов, обладающих всеми нижеперечисленным:
а. Любой из следующих структур:
1. Простыми или сложными оксидами циркония и сложными оксидами кремния или алюминия;
2. Простыми нитридами бора (имеющих кубическую кристаллическую решетку);
3. Простыми или сложными карбидами кремния или бора; или
4. Простыми или сложными нитридами кремния;
b. Суммарными металлическими примесями, исключая преднамеренно вносимые добавки, в количестве, не превышающем:
1. 1 000 частей на миллион для простых оксидов или карбидов; или
2. 5 000 частей на миллион для сложных соединений или простых нитридов; и
c. Представляющих собой:
1. Цирконий со средним размером частицы, равным или меньше 1 мкм и содержащим не более 10 % частиц с размером, превышающим 5 мкм;
2. Другой базовый материал со средним размером частицы, равным или меньше 5 мкм и содержащий не более 10 % частиц с размером, превышающим 10 мкм; или
3. Имеющие все следующие характеристики:
a. Защитные пластинки с отношением длины к толщине, превышающим значение 5;
b. Короткие стержни («усы») с отношением длины к диаметру, превышающим значение 10 для диаметров стержней менее 2 мкм; и
c. Длинные или рубленные волокна с диаметром меньшим 10 мкм
2. «Некомпозиционных» керамических материалов, изготовленных из материалов, указанных в пункте 1Е002.c.1;
Примечание: По пункту 1Е002.c.2. не контролируются «технологии» разработки и производства абразивных материалов.
d. «Технологии» для «производства» ароматических полиамидных волокон:
e. «Технологии» для сборки, эксплуатации или восстановления материалов, контролируемых по пункту 1С001;
f. «Технологии» для восстановления «композиционных материалов», слоистых структур или материалов, контролируемых по пунктам 1А002, 1С007.c. или 1C007.d.
Примечание: По пункту 1E002.f. не контролируются «технологии» для ремонта структур «гражданских летательных аппаратов», использующих «углеродные волокнистые или нитевидные материалы» и эпоксидные смолы, содержащиеся в инструкциях по эксплуатации авиационных изделий.
1Е002
1Е101 «Технологии» в соответствии с общим технологическим примечанием для «использования» продукции, подлежащих контролю согласно пунктам 1А102, 1В001, 1В101, 1В102, 1В115 - 1В119, 1С001, 1С101, 1С107, 1С111 - 1С118, 1D101 или 1D103.
1Е101
1Е102 «Технологии» в соответствии с общим технологическим примечанием для «разработки» «программного обеспечения», подлежащего контролю согласно п. 1D001, 1D101 или 1D103.
1Е102
1Е103 «Технологии» для регулирования температуры, давления или атмосферы в автоклавах или гидроклавах при «производстве» «композиционных материалов» или частично обработанных «композиционных материалов.
1Е103
1Е104 «Технологии», связанные с «производством» материалов пиролитическим способом путем подачи на форму, оправку или иную подложку газовой струи, содержащей вещества, разлагающиеся в диапазоне температур от 1573 K (1300°С) до 3173K (2900°С) при давлении от 130 Ра до 20 kРа.
Примечание: Пункт 1Е104 включает «технологии» получения газовой среды необходимого состава, с определенной скоростью потока, технологическую последовательность и параметры регулирования процесса.
1Е104
1Е201 «Технологии», в соответствии с технологическим примечанием для «использования» продукции, определенной в пунктах 1А002, 1А202, с 1А225 по 1А227, 1В201, с 1В225 по 1В233, 1С002 а.2.с. или d., 1C010.b., 1C202, 1С210, 1С216, с 1С225 по 1С240 или 1D201.
1Е201
1Е202 «Технологии», в соответствии с Общим технологическим примечанием для «разработки» или «производства» продукции, определенной в 1А202 или с 1А225 по 1А227.
1Е202
1Е203 «Технологии», в соответствии с Общим технологическим примечанием для «разработки» «Программного обеспечения», определенного в 1D201.
1Е203
1Е301. Технологии разработки или производства возбудителей заболеваний (патогенов), указанных в части 1С354.
В подраздел Категория 2 внесены изменения в соответствии с постановлением Правительства РК от 15.04.11 г. № 418 (см. стар. ред.); постановлением Правительства РК от 18.06.13 г. № 618 (см. стар. ред.); постановлением Правительства РК от 20.12.13 г. № 1372 (см. стар. ред.); постановлением Правительства РК от 14.05.18 г. № 266 (см. стар. ред.)
Категория 2
Обработка материалов
2А Системы, оборудование и компоненты
Особое Примечание: Малошумящие подшипники описаны в Военном Списке
2А001 Антифрикционные подшипники или системы подшипников и их компоненты, такие, как:
2А101 Шариковые подшипники, отличные от указанных в 2А001, имеющие все допуски, устанавливаемые в соответствии с ISO 492 Класс допуска 2 (или ANSI / АВМА Std 20 класс допуска АВЕС-9 или другие национальные эквиваленты), или лучше, и имеющие все следующие характеристики:
a. Внутреннее кольцо диаметром отверстия от 12 до 50 мм;
b. Наружное кольцо диаметром отверстия от 25 до 100 мм; и
c. Ширина между 10 и 20 мм.
Примечание: Пункт 2А001 не контролирует шарики к подшипникам с допусками, устанавливаемыми производителем в соответствии с международным стандартом ISO 3290 по классу 5 или хуже.
а. Шариковые и твердороликовые подшипники, имеющие допуски, устанавливаемые производителем в соответствии с ISO 492 Допуск Класса 4 или его национальным эквивалентом, или лучше, и имеющие кольца, шарики или ролики (ISO 5593), сделанные из медно-никелевого сплава или бериллия;
Примечание: Пункт 2А001.а. не контролирует конические роликовые подшипники.
b. Другие шариковые и твердороликовые подшипники, имеющие допуски, устанавливаемые производителем в соответствии со стандартом ISO 492 по допуску класса 2 или его национальным эквивалентом, или лучше;
Примечание: Пунктом 2А001.b. не контролируются конические роликовые подшипники.
c. Активные магнитные подшипниковые системы, имеющие любую из следующих составляющих:
1. Материалы с магнитной индукцией 2.0 Т или больше и пределом упругости больше 414 МПа;
2. Оснащенные электромагнитным устройством для привода с трехмерным униполярным высокочастотным подмагничиванием; или
3. Высокотемпературные, с температурой 450 К (177 0С) и выше, позиционные датчики.
2А001 а. 8482 10 900 1
8482 10 900 9
8482 50 000 0
8482 40 000 0
2А001 b. 8482 80 000 0
2А001 с. 8483 30 380 0
8483 30 800
2А225 Тигли из материалов, устойчивых к воздействию жидких актинидных металлов, такие как:
а. Тигли, обладающие обеими следующими характеристиками:
1. Объемом от 150 см3 до 8 000 см3, и
2. Изготовленные из следующих материалов, имеющих чистоту 98 % или более по весу, или облицованные ими:
a. Фторид кальция (CaF2);
b. Цирконат кальция (метацирконат) (CaZrO3);
c. Сульфид церия (Ce2S3);
d. Оксид эрбия (Еr2О3);
e. Оксид гафния (НfO2);
f. Оксид магния (MgO);
g. Нитрид сплава ниобия, титана и вольфрама (приблизительно 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);
h. Оксид иттрия (Y2O3); или
i. Оксид циркония (ZrO2);
b. Тигли, обладающие обеими следующими характеристиками:
1. Объемом от 50 см3 до 2 000 см3, и
2. Изготовленные или защищенные танталом, имеющим чистоту 99,9 % или выше по весу;
с. Тигли, обладающие всеми следующими характеристиками:
1. Объемом от 50 см3 до 2 000 см3,
2. Изготовленные или защищенные танталом, имеющим чистоту 98 % и выше по весу, и
3. Покрытые карбидом, нитридом или боридом тантала (или любым их сочетанием).
2А225 а. 6903 90 900 0
6909 19 000
2А225 b. 6903
8103 90 900 0
2А225 с. 6903
8103 90 900 0
2А226 Клапаны, обладающие обеими следующими характеристиками:
a. Номинальным размером в 5 мм или свыше;
b. С сильфонным уплотнителем, и
c. Полностью изготовленные из алюминия, алюминиевого сплава, никеля или сплава, содержащего не менее 60 % никеля по весу или с покрытием из них.
Техническое примечание: Для клапанов с различными входным и выходным диаметрами параметр условного прохода, указанный в 2А226, относится к наименьшему диаметру.
2А226 8481 10 990 0
8481 30 990 0
8481 40 900 0
8481 80 639 0
8481 80 690 0
8481 80 739 0
8481 80 790 0
8481 80 819 0
8481 80 990 0
2В Испытательное, контрольное и производственное оборудование
Технические примечания:
1. Вторичные параллельные горизонтальные оси (например, w-ось на фрезах горизонтальной расточки или вторичная ось вращения, центральная линия которой параллельна первичной оси вращения) не включаются в общее число горизонтальных осей. Ось вращения необязательно предусматривает поворот на угол, больший 3600. Ось вращения может управляться устройством линейного перемещения (например, винтом или зубчатой рейкой)
2. Для 2В, число осей, которые одновременно скоординированы для «контурного управления» - это число осей, воздействующих на относительное движение между станком и деталью, приставным резаком или шлифовальным кругом, который срезает или удаляет материал с поверхности обрабатываемой детали. Дополнительные оси не используются, которые могли бы оказывать воздействие на относительное движение внутри станка. Такие оси включают:
a. Системы правки шлифовального круга шлифовального станка;
b. Параллельные оси вращения для установки по отдельности нескольких деталей, с. Коллинеарные оси вращения для манипулирования деталью, зажав ее в держателе с разных концов.
3. Номенклатура осей определяется в соответствии с международным стандартом ISO 841 «Станки с числовым программным управлением. Номенклатура осей и видов движения».
4. Для категорий с 2В001 по 2В009 «наклоняющиеся шпиндели» рассматриваются как оси вращения.
5. Вместо индивидуальных протоколов испытаний для каждой модели станка могут быть применены гарантируемые уровни точности позиционирования, использующие согласованные процедуры испытаний, соответствующие международному стандарту ISO 230/2 (1988) или его национальным эквивалентам. Гарантируемая точность позиционирования означает уровень точности, заявляемый соответствующему ведомству, когда экспортер является признанным гарантом точности данной модели станка.
Определение гарантированного уровня:
a. Выбрать пять станков тестируемой модели;
b. Измеряют стабильность позиционирования по оси (R↑,R↓) в соответствии с международным стандартом ISO 2302:2014 и оценивают «однонаправленную повторяемость позиционирования» для каждой из осей, каждого из пяти станков;
c. Определить значения А для каждой оси каждого станка. Метод вычисления значения А описан в стандарте ISO;
d. Определить средние значения А для каждой оси. Это означает, что среднее -А- становится гарантируемым значением для каждой оси данной модели (-А-х, -А-у...);
e. Поскольку список Категории 2 относится к каждой линейной оси, количество гарантируемых значений должно соответствовать количеству линейных осей.
f. Если какая-либо ось модели станка, не контролируемая по пунктам с 2В001.а. по 2В001.c. или 2В201. имеет гарантируемую точность -А- в 6 мкм для шлифовальных станков, или 8 мкм для фрезерных или токарных станков, или лучше, производителю следует переаттестовать уровень точности каждые 18 месяцев.
2В001 Станки, приведенные ниже, и любые их сочетания для обработки или резки металлов, керамики и «композиционных материалов», которые в соответствии с техническими спецификациями изготовителя могут быть оснащены электронными устройствами «числового программного управления» или специально разработанными компонентами, такими как:
Особое примечание: См. также 2В201.
a. Металлорежущие станки для обточки деталей, обладающие любой из следующих характеристик:
1. Точность позиционирования со «всей доступной компенсацией» равной или меньше (лучше) 6 мкм в соответствии с международным стандартом ISO 230/2 (1988) или его национальными эквивалентами вдоль любой линейной оси;
2. Две или более оси, которые могут одновременно координироваться для проведения «контурного управления»;
b. Фрезерные станки, обладающие следующими характеристиками:
1. Три линейные оси плюс одна ось вращения, которые могут быть одновременно скоординированы для «контурного управления», имеющие любую из следующих характеристик:
a. «Однонаправленная повторяемость позиционирования», вдоль одной линейной оси или более, равна 0,9 мкм или менее (лучше), с рабочей зоной менее 1 м; или
b. «Однонаправленная повторяемость позиционирования», вдоль одной линейной оси или более, равна 1,1 мкм или менее (лучше), с рабочей зоной 1 м или более.
2. Пять или более осей, которые могут быть одновременно скоординированы для «контурного управления»;
3. Точность позиционирования для копировально-расточных станков со всей доступной компенсацией равной или меньше (лучше) 4 мкм в соответствии с международным стандартом ISO 230/2 (1988) или его национальными эквивалентами вдоль любой линейной оси;
4. Летучие резцы, обладающие любой из следующих характеристик:
а. Движение по инерции шпинделя или система кулачков менее (лучше) 0,0004 мм полного внутреннего отражения (TTR);
b. Угловое отклонение скользящего движения (поворот в горизонтальной плоскости; поворот вокруг вертикальной оси, изменение шага и вращение) менее (лучше) чем 2 секунды дуги, полное внутреннее отражение (TIR) за свыше 300 мм длины хода.
c. Механические станки для шлифования, обладающие следующими характеристиками:
1. Такими как:
a. Точность позиционирования со «всей доступной компенсацией», равной или меньше (лучше) 4 мкм в соответствии с международным стандартом ISO 230/2 (1988) или его национальными эквивалентами, вдоль любой линейной оси;
b. Три или более оси, которые могут быть одновременно скоординированы для «контурного управления»;
2. Пять или более осей, которые могут быть одновременно скоординированы для «контурного управления»;
d. Станки для электроисковой обработки (СЭО) без подачи проволоки, имеющие две или более оси вращения, которые могут быть одновременно скоординированы для «контурного управления»;
e. Станки для обработки металлов, керамики или «композитных материалов», обладающие всеми следующими характеристиками:
1. Удалять материал посредством:
a. Водяных или других жидких струй, включая струи с абразивными присадками;
b. Электронного луча; или
c. «Лазерного» луча:
2. Имеющие две или более оси вращения, которые:
a. Могут быть одновременно скоординированы для «управления по контуру»;
b. Имеют точность позиционирования меньше (лучше) 0,003 0
f. Станки для сверления глубоких отверстий или токарные станки, модифицированные для сверления глубоких отверстий, обеспечивающие максимальную глубину сверления отверстий 5 000 мм или более, и специально разработанные для них компоненты.
g. Токарные станки, удовлетворяющие всем следующим условиям:
1. «Однонаправленная повторяемость позиционирования» равна 0,9 мкм или менее (лучше), с рабочей зоной менее 1 м; или
2. «Однонаправленная повторяемость позиционирования» вдоль одной линейной оси или более равна 0,9 мкм или менее (лучше), с рабочей зоной 1 м или более;
Примечание:
1. Пункт 2В001 не контролирует металлорежущие станки, специально разработанные для производства шестерен. См. 2В003 по таким станкам.
2. Пункт 2В001 не контролирует металлорежущие станки, специально разработанные для производства следующих деталей и их частей:
a. Вал кривошипа и вал эксцентрика;
b. Станки и фрезы;
c. Шнек экструдера (прессующий шнек);
d. Гравированные или ограненные детали ювелирных украшений.
3. Металлорежущий станок, обладающий, по крайней мере, двумя или тремя следующими возможностями: точить, фрезеровать или шлифовать (к примеру, токарный станок с фрезеровочными возможностями оценивается по списку 2В001.а.,.b..с. или g.
4. Пунктом 2В001.а. не контролируются токарные станки, специально разработанные для производства контактных линз и удовлетворяющие всем следующим условиям:
a. Контроллерные станки ограниченные программным обеспечением с частично программируемым вводом данных, используемых в офтальмологических целях;
b. Отсутствие вакуумного патрона.
5. Пункт 2В001.С. не контролирует следующие шлифовальные станки:
1. Цилиндрические внешние, внутренние и внешневнутренние шлифовальные станки, обладающие всеми следующими характеристиками:
a. ограниченные цилиндрическим шлифованием;
b. с максимально возможной длиной или диаметром изделия 150 мм;
2. Станки, специально спроектированные для шлифования по шаблону и обладающие любой из следующих характеристик:
a. С-ось применяется для поддержания шлифовального круга перпендикулярно рабочей поверхности; или
b. А-ось определяет конфигурацию цилиндрического кулачка.
3. Плоскошлифовальные станки;
6. Для целей пп. 2B001.a.-2B001.c., измерение осей должно выполняться в соответствии с методиками испытаний в п. 5.3.2. стандарта ISO 230-2:2014. Для осей длиной более 2 м испытания должны проводиться на отрезках в 2 м. Для осей длиной более 4 м требуется несколько испытаний (например, два испытания для осей длиной от более 4 м до 8 м и три испытания для осей длиной от более 8 м до 12 м). Каждое испытание должно проводиться с отрезками длиной в 2 м, равномерно распределенными по длине оси. Испытываемые отрезки равномерно распределяются вдоль полной длины оси с любыми излишками длины, равномерно разделенными в начале, посередине и в конце испытываемого отрезка. Указанное в отчете значение всех испытываемых отрезков является наименьшей «однонаправленной повторяемостью позиционирования».
2B002 8464 20 110 0;
8464 20 190 0;
8464 20 950 0;
8465 93 000 0
2B003 Станки с «числовым программным управлением» или станки с ручным управлением и специально разработанные для них компоненты, оборудование для контроля и приспособления, специально разработанные для полирования, окончательной обработки, шлифования или хонингования закаленных (Rс = 40 или более) прямозубых цилиндрических, одно- или двухзаходных винтовых шестерен с модулем более 1 250 мм и с лицевой шириной, равной 15 % от модуля или более, с качеством Американской Ассоциации Производителей Зубчатых Передач и Приводов (AGMA) 14 или лучше после окончательной обработки (эквивалентно международному стандарту ISO 1328 по классу 3).
2В003 8461 40 710 0
8461 40 790 0
2В004 Горячие «изостатические прессы», имеющие все следующие составляющие, и специально разработанные для них компоненты и приспособления:
Особое примечание: См. также 2В104 и 2В204.
a. Камеры с контролируемыми тепловыми условиями внутри закрытой полости и внутренним диаметром полости 406 мм и более; и
b. Любую из следующих характеристик:
1. максимальное рабочее давление более 207 МПа;
2. контролируемые температурные условия, превышающие 1 773 К (1 500 0С); или
3. оборудование для насыщения углеводородом и удаления газообразных продуктов разложения.
Техническое примечание:
Под внутренним размерам камеры понимают рабочие размеры камеры, в которых достигаются рабочие давление и температура; в размер камеры не включается размер зажимных приспособлении. Указанный выше размер будет минимальным из двух размеров - внутреннего диаметра камеры высокого давления или внутреннего диаметра изолированной высокотемпературной камеры - в зависимости от того, какая из двух камер находится в другой.
Особое примечание: касательно специально спроектированных матриц, пресс-форм и инструментов см. Пункты 1В003, 9В009 и Военный Список.
2В004 8462 99 100 0
8462 99 500 0
8462 99 900 1
8462 99 900 9
8462 99
2В005 Оборудование, специально спроектированное для оснащения, реализации процесса и управления процессом нанесения неорганического покрытия, защитных слоев и поверхностных модификаций на подложки, не предназначенные для электронной промышленности, посредством процессов, представленных в таблице и отмеченных в примечаниях после пункта 2E003.f., а также специально спроектированные средства автоматизированного регулирования, установки, манипуляции и компоненты управления, включая:
а. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование для химического осаждения из паровой фазы (CVD) со всеми следующими показателями:
Особое примечание: См. также 2В105
1. Процесс модифицирован для одного из следующих методов:
a. пульсирующего СУП;
b. теплового осаждения контролируемой нуклеацией (СМТО); или
c. усиленного плазмой или с помощью плазмы СУП; и
2. Включает какой-либо из следующих способов:
a. использующий высокий вакуум (равный или менее 0.01 Па) для уплотнения вращением; или
b. использующий средства контроля толщины слоя покрытия на месте;
b. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование ионной имплантации с силой тока пучка 5 мА или более;
c. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование для физического осаждения паров электронным лучом (EB-PVD) с расчетной мощностью свыше 80 кВт, имеющее любые из следующих составляющих:
1. «Лазерную» систему управления уровнем в заливочной ванне, которая точно регулирует скорость подачи исходного вещества; или
2. Управляемый компьютером регистратор скорости, работающий на принципе фотолюминесценции ионизированных атомов в потоке пара, необходимый для нормирования скорости осаждения покрытия, содержащего два или более элемента;
d. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование плазменного напыления, обладающее любой из следующих характеристик:
1. Работающее при уменьшающемся давлении контролируемой атмосферы (равной или менее 10 кПа, измеряемой выше и внутри 300 мм выходного сечения сопла плазменной горелки) в вакуумной камере, способной обеспечивать снижение давления до 0.01 Па, предшествующее началу процесса напыления; или
2. Имеющее в своем составе средства контроля толщины слоя покрытия на месте;
e. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование металлизации капельным осаждением, способное обеспечить плотность тока 0,1 мА/кв. мм или более, с производительностью напыления 15 мкм/ч или более;
f. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование катодно-дугового напыления, включающее систему электромагнитов для управления плотностью тока дуги на катоде;
g. «Управляемое встроенной программой» производственное оборудование ионной металлизации, позволяющее осуществлять на месте любое из следующих измерений:
1. Толщины слоя нанесенного на подложку и скорости роста: или
2. Оптических характеристик.
Примечание: Пункт 2В005 не контролирует оборудование химического парового осаждения, катодно-дугового напыления, капельного осаждения, ионной металлизации или ионной имплантации, специально разработанное для покрытия режущего инструмента или для механообработки.
2В005 а. 8456 90 000 0
8486 10
8486 30
8486 40
8419 89 989 0
2В005 b. 8456 10 001 0
8456 10 009 0
8543 10 000 0
2В005 с. 8456 10 001 0
8456 10 009 0
8486 10
8486 30
8486 40
2В005 d. 8456 90 000 0
8486 10
8486 30
8486 40
8419 89 98
2В005 е. 8456 90 000 0
8486 10
8486 30
8486 40
8419 89 300 0
8419 89 98
2В005 f. 8515 80 990 0
8486 10
8486 30
8486 40
2В005 g. 8456 10 001 0
8456 10 009 0
2В006 Системы или оборудование для измерения или контроля размеров, такие как:
а. Управляемые ЭВМ, с «числовым программным управлением» или «управляемые встроенной программой» машины контроля размеров, имеющие способность отражать максимально-допустимую ошибку (МДО) в трехмерных или пространственных измерениях в любой точке в пределах рабочего диапазона станка (к примеру, в пределах длины осей), равную или менее (лучше) (1,7 + L/1 000) мкм (L - длина, измеряемая в миллиметрах), тестируемую в соответствии с международным стандартом ISO 10360-2 (2001);
Особое примечание: См. также 2В206.
b. Измерительные инструменты для линейных или угловых перемещений, такие, как:
1. Измерительные инструменты для линейных перемещений, имеющие любую из следующих составляющих:
Техническое примечание: Для 2В006.b.1., « Интерферометры и оптические кодирующие устройства систем измерения перемещений, содержащие лазер, контролируются только по пп. 2B006.b.1.c. и 2B206.c.
a) Измерительные системы бесконтактного типа с «разрешающей способностью», равной или менее (лучше) 0,2 мкм, при диапазоне измерений до 0,2 мм;
b) Системы с линейным регулируемым дифференциальным преобразователем напряжения, обладающие следующими характеристиками:
1. «Линейностью», равной или меньше (лучше) 0,1 %, в диапазоне измерений до 5 мм.
2. Отклонением, равным или меньшим (лучшим) 0,1 % в день, при стандартных условиях с колебанием окружающей температуры +/- 1К:
с. Измерительные системы, удовлетворяющие всем следующим условиям:
1. Содержащие «лазер»;
2. «Разрешение» на полной шкале 0,200 нм или меньше (лучше);
3. Способные достигать «погрешности измерения», при компенсации показателя преломления воздуха, в любой точке в пределах измеряемого диапазона, равной или меньше (лучше) (1,6 + L/2 000) нм (L - измеряемая длина в миллиметрах), и измеренной в течение 30 секунд при температуре 20 °C ± 0,01 °C.
a. «Разрешение» на полной шкале 0,1 мкм или меньше (лучше);
b. «Погрешность измерения», равную или меньше (лучше) (0,2 +L/2 000) мкм (L - длина, измеряемая в миллиметрах).
Примечание: пункт 2B006.b.1. не контролирует измерительные интерфераметрические системы без обратной связи с замкнутым или открытым контуром, содержащие «лазер» для измерения погрешностей перемещения подвижных частей станков, средств контроля размеров или подобного оборудования.
2. Угловые измерительные приборы с «отклонением углового положения», равным или меньшим (лучшим) 0,00025 0.
Примечание: пунктом 2В006.b.2. не контролируются оптические приборы, такие как автоколлиматоры, использующие направленный свет (например, «лазерное» излучение) для выявления углового смещения зеркала.
c. Оборудование для измерения неровностей поверхности с применением оптического рассеяния как функции угла с чувствительностью 0,5 нм или меньше (лучше).
Примечание: станки, которые могут быть использованы в качестве средств измерения, подлежат контролю, если их параметры соответствуют или превосходят критерии, установленные для функций станков или измерительных приборов.
2В006 а. 9031 80 340 0
9031 80 320 0
2В006 b. 9031 49 900 0
9031 49 000 0
9031 80 320 0
9031 80 340 0
9031 80 910 0
2В006 с. 9031 49 900 0
2В007 «Роботы», обладающие любой из следующих характеристик, и специально спроектированные контроллеры и «рабочие органы» для них:
